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黃光輔助材料底部抗反射涂層光刻膠

飛凱材料DUV底部抗反射層材料，搭配合適厚度可以將Al、Cu、W、GaAs等襯底反射率降低到1%以下；具有良好的填隙能力以拓展工藝窗口，分別適用于各類KrF光刻制程。

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